Round Lab Pine Cica Deep Pore Clay Mask Cleanser — двойное средство: маска и очищающее средство в одном флаконе. Формула с экстрактом сосны, центеллой азиатской и натуральной глиной глубоко очищает поры, контролирует себум и успокаивает раздражённую кожу, одновременно подготавливая её к последующим шагам K-beauty ухода.

Экстракт сосны богат антиоксидантами — освежает и очищает кожу, придавая ей более здоровый вид. Центелла азиатская успокаивает покраснения и укрепляет кожный барьер. Натуральная глина впитывает избыток себума и вытягивает загрязнения, освобождая и сужая поры. Средство работает в двух режимах: как ежедневная пенка для умывания и как интенсивная маска для глубокого очищения.

Эффекты от применения:

• глубокое очищение пор и удаление загрязнений;
• контроль себума и снижение жирного блеска;
• успокоение раздражения и покраснений;
• улучшение текстуры и уменьшение видимости пор;
• подготовка кожи к эссенциям и ампулам K-beauty ухода.

Рекомендуется при:

• жирной и комбинированной коже;
• забитых порах и склонности к чёрным точкам;
• чувствительной или склонной к покраснениям коже, которой нужен мягкий уход;
• при многоступенчатом K-beauty уходе;
• для тех, кто стремится к более чистой и ровной коже.

Способ использования:

1. Нанесите небольшое количество средства на лицо и мягко помассируйте, уделяя особое внимание Т-зоне и зонам с загрязнёнными порами.
2. Тщательно смойте водой.
3. Для интенсивного ухода нанесите на сухую кожу как маску на 1–2 минуты, затем эмульгируйте с водой и смойте.
4. Избегать области вокруг глаз.